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儀器型號(hào)：牛津EDX 二手 X-Max 80平方 能譜儀

生產(chǎn)廠家:英國(guó)牛津儀器公司

工作原理主要技術(shù)指標(biāo)：

能譜儀與場(chǎng)發(fā)射電鏡聯(lián)用，高能電子入射到樣品表面，激發(fā)出X射線，能譜儀探頭緊靠樣品，高效收集X射線，進(jìn)行快速元素定性、定量分析。

探測(cè)器：SDD硅漂移電制冷探測(cè)器

能量分辨率：MnKa優(yōu)于127eV

元素分析范圍：Be4—Cf98

主要用途：

與場(chǎng)發(fā)射電鏡SEM聯(lián)用，進(jìn)行材料微區(qū)成分分析，單顆粒自動(dòng)識(shí)別及成分形貌分析。

牛津EDX 二手 X-Max 80平方 能譜儀Max系列能譜儀，有效晶體面積為 40mm2,65mm2,100mm2以及170mm2，是新一代硅漂移型探測(cè)器（SDD)，配有大面積晶體和低噪音電子元器件，分析速度和探測(cè)靈敏性都有大幅提升。

速度 - 低噪音電子元器件和X4脈沖處理器的結(jié)合，使Ultim Max能夠在1,500,000 cps的計(jì)數(shù)率下對(duì)樣品進(jìn)行面分析，并在400,000 cps計(jì)數(shù)率下進(jìn)行精確定量。

靈敏度 - 晶體尺寸有著很大影響。使用Ultim Max的大面積晶體（100 mm2和170 mm2），可大幅提高分析條件下的計(jì)數(shù)率。

• X-MaxN 為低能端元素的分析做了巨大的優(yōu)化——無(wú)論何種尺寸，表現(xiàn)出優(yōu)異的低能端分析性能

• 所有尺寸的能譜儀均可保證檢測(cè)到Be，可獲得SiLI峰的面分布

• 超大面積的能譜儀——均具有優(yōu)異的低能端分析性能

• 優(yōu)異的空間分辨率
  高空間分辨率，X射線擴(kuò)展區(qū)域更小

• 大面積能譜儀可以在低加速電壓及低束流下采集X-射線

• 納米尺度的特征可以更好的被檢測(cè)到

• 超大面積的能譜儀——使高級(jí)的納米分析成為可能

• 150 mm2 的能譜儀比小晶體面積的優(yōu)勢(shì)在哪里？
  舉例為證。加速電壓20kV，束流不到2nA時(shí)，150 mm2 的能譜儀每秒即可輸出200,000的計(jì)數(shù)。而使用10 mm2 的能譜儀時(shí)，需要近20nA下才可達(dá)到相同的計(jì)數(shù)率。

• 下圖顯示不同束流下的典型計(jì)數(shù)率，20kV下分析純Mn時(shí)，探測(cè)器檢出角30°且距樣品45mm。使用大面積能譜儀，無(wú)需增加束流即可極大地增大計(jì)數(shù)率。也就是說(shuō)在低束流下，保證高空間分辨率及低輻照損傷的同時(shí)可以獲得足夠多的計(jì)數(shù)。左圖顯示束流增加對(duì)改善圖像質(zhì)量的影響。

• 點(diǎn)擊圖像可查看大圖

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• 束流對(duì)納米材料分析的影響

• 當(dāng)使用晶體面積小的能譜儀，需要高束流來(lái)滿足足夠的計(jì)數(shù)率，但會(huì)損害空間分辨率。超大面積能譜儀X-MaxN 150可以在低束流即高空間分辨率下獲得足夠多計(jì)數(shù)，因此可以成功實(shí)現(xiàn)納米材料的檢測(cè)與分析。

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• 右圖：納米結(jié)構(gòu)在5kV下的X-射線面分布。計(jì)數(shù)率相同時(shí)，150mm2的能譜儀所需束流更低，意味著空間分辨率足夠高可以分辨出納米尺度的變化，且極大地減弱了樣品的輻照損傷。相反，10mm2的能譜儀則需要更高的束流，卻會(huì)嚴(yán)重?fù)p害空間分辨率，使得面分布圖像模糊不清。

  
  

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• 右圖：在0.2 nA, 3 kV下使用150 mm2 X-MaxN 的能譜儀對(duì)記憶合金中的納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析。可以觀察到FeLa，NiLa及CuLa峰顯示出的納米結(jié)構(gòu)分布差異，zei小可以區(qū)分出20nm寬度的結(jié)構(gòu)。